当时日本，德国，包括美国这一些光刻机公司路线选择出错。
而a却是花重金开辟了另一条光刻机生产工艺。
这个工艺，就涉及到水，也就是林本艰现在提到的浸润式。
“您觉得他的这个工艺有没有前途？”
陈宇不是很懂技术，但却知道，这是决定未来光刻机命运的时刻。
在前世2008年之后，全球90以上生产出来的芯片，用的都是林本艰所提出来的湿式光刻工艺。并且，也正因为林本艰提出了这个湿式工艺，这才将芯片从190纳米，一路做到了130纳米，90纳米，65纳米，40纳米，28纳米，20纳米，16纳米，10纳米，7纳米，和5纳米。甚至，连最为尖端的3纳米，采用的都是林本艰的湿式光刻技术。
“这个，说不准，理论上有可能，但里面还存在着一系列要解决的问题。比如，水会不会产生汽泡，水会不会污染设备，要怎么做防水，水遇热会膨胀，折射率会改变，这又怎么解决……”
张如京向陈宇述说着这一个湿式光刻工艺所面对的问题。
只是，这个时候，陈宇的眼睛已经盯紧了林本艰。
他知道。
未来若干年之后，这一切的问题都不会成为问题。
如果抓住这个林本艰，那么，中国光刻机就有希望了。